为打破独占，我国光刻胶企业正加快完成要害技能打破，自主立异的效果也如漫山遍野般出现。
先有，徐州博康的湿法光刻胶成功打破14纳米节点，大幅度下降对海外高端光刻胶的依靠。
随后，武汉太紫微推出T150A光刻胶产品，不只已经过半导体工艺量产验证，还完成了配方全自主规划。
职业猜测，全球光刻胶商场未来几年将坚持微弱增加，估计2026年商场规模将超越120亿美元。其间，我国光刻胶商场规模在2026年有望到达156亿元，年复合增加率近7%，增量空间宽广。
现在，我国半导体光刻胶国产化率水平较低，尤其是高端光刻胶范畴，KrF、ArF光刻胶的国产化率均缺乏10%。
不过，跟着国产光刻胶技能的不断打破，此前国产化率低的下风反而成了国产代替空间大的优势。
这样一来，像彤程新材、南大光电、华懋科技、晶瑞电材这些把握光刻胶技能、加快推进国产代替的企业，将有望迎来高速开展。
光刻胶是芯片光刻工艺中不可或缺的抗腐蚀涂层资料，也是打破独占的要害项目。
而彤程新材是国内仅有具有高级光刻胶自主研制及出产能力、具有全国仅有ASML曝光机的上市公司。
公司原来是做轮胎事务的，是国内最大的特种橡胶助剂出产商之一，具有深沉的树脂出产技能堆集。
而光刻胶的重要原资料之一便是感光树脂，因而彤程新材很快就在光刻胶范畴取得了研制打破。
从下图来看，彤程新材和徐州博康（未上市）是国内光刻胶进程最快的两匹千里马，除了EUV光刻胶外，其他类别全方面掩盖，而且均完成量产。
这儿弥补一下，现在商场上的光刻胶被划分为G/I线、KrF、ArF、EUV，出产难度顺次增大，技能壁垒顺次升高，适用的芯片也渐渐变得高端。
其间，KrF光刻胶上半年收入增速超60%，I线%，是公司增加最快的产品序列；多款ArF光刻胶的出货目标已达世界领先水平，并连续经过客户认证，开端构成出售。
在溶剂范畴，公司的高规光刻胶配套试剂EBRG5等级，已正式量产出货，估计下半年逐渐上量。
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